Numéro de Norme: YS/T 14-2015(YS/T14-2015)
Chinois:异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法
Français:Mesure de l’épaisseur des couches épitaxiées hétérogènes et des couches polycristallines de silicium
Date d’Entrée en Vigueur:2015-10-01
Portée standard:Cette norme s’applique à la mesure de l’épaisseur de la couche épitaxiale hétérogène et de la couche polycristalline de silicium avec l’épaisseur de la couche d’interface entre le substrat et la couche de dépôt inférieure à 100 nm, et la plage de mesure est de 1 μm à 100 μm.
Téléchargeable en PDF: N
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